4.5 解决方案

通过对以上重要申请人及重点专利的分析，本报告在解决钕铁硼SC片厚度及晶相控制的问题上，整理出以下的解决方案：坩埚应优选石英材质，辊轮采取铜或钢质，浇注应在压力为30k Pa或以下的减压惰性气体气氛中进行；流动速率为0.1kg/s，辊轮可以采用单辊和双辊冷却两种方式，单辊表面速度设定为2～12m/s选用双辊冷却时两辊间距最好为0.05～0.2mm，辊子线速度优选地为1.5～5m/s。两个铁辊圆周速度优选范围是1.5～5m/s。平均晶粒直径越细微越好，但是在低于15nm的尺寸，会引起i Hc的下降，因此下限是15nm等。

重点专利方面，日本住友特殊金属株式会社在美国申请的US20040067154A1专利比较重要，提出将从熔解坩埚的合金熔液导向至急冷的冷却辊规定位置的泻槽（导向机构），泻槽具有相对水平方向以角度β倾斜的熔液导向面，将连接熔液开始接触上述冷却辊的表面的位置与上述冷却辊的旋转轴的直线相对垂直方向形成的角度α，设定为与上述冷却辊的旋转方向相反的方向呈0°以上80°以下，通过多个管状孔将上述熔液分离成多条液流后，接触于上述冷却辊，各管状孔的开口面积是0.02cm2以上0.5cm2以下，长度是0.5mm以上50mm以下，管状孔的前端和上述冷却辊表面的间隔是0.3mm以上70mm以下，可以提高熔液和辊面之间的贴合性，并实现均匀的冷却，得到均质的急冷合金组织，因此，也提高最终得到的磁体的特性。在控制流过导向面上的熔液的流速的同时，将该流整流，由此实现熔液向冷却辊稳定地连续供给。这些专利技术均可通过恒流量浇注实现SC片厚度均匀、改善晶相的目的。