第二章 光电功能薄膜的制备

薄膜的制备方法主要分为物理气相沉积（physical vapour deposition，简称PVD）法、化学气相沉积（chemical vapour deposition，简称CVD）法、溅射沉积法（简称溅射法）及其他方法，如脉冲激光沉积（pulse laser deposition，简称PLD）法、化学溶胶-凝胶（Sol-Gel）法、电沉积法等.

物理气相沉积法又分为真空蒸发沉积法（简称真空沉积法）、离子镀法、离子团束（ionic cluster beam，简称ICB）法和分子束外延（MBE）法等；化学气相沉积法又分为金属有机化学气相沉积（MOCVD）法、微波电子回旋共振化学气相沉积 （microwave-electron cyclotron resonance chemical vapour deposition，简称MW-ECR-CVD）法、直流电弧等离子体喷射法和触媒化学气相沉积（catalytic chemical vapour deposition，简称Cat-CVD）法等.

薄膜的制备方法多种多样，在很多相关的薄膜技术专著中都有详细的介绍.这里，我们只是较为简单地提及常用的光电功能薄膜的制备方法.