7　结　　构

7.1　一般规定

7.1.1　发光二极管工厂光刻机等精密设备基础应满足微振动控制的要求。

7.1.2　产生较大振动的设备基础宜远离光刻机等精密设备区域；当无法远离时，对产生较大振动的设备应采取有效的隔振措施。

7.1.3　生产厂房工艺生产区的结构不宜设置伸缩缝。