大脑半球分为外侧面、内侧面和基底面，上外侧面与内侧面以上内侧缘为分界，外侧缘是外侧面和基底面的分界。内侧面平而垂直，大脑镰将两侧半球分隔。大脑半球的表面可见许多脑回，脑回之间被脑沟或裂分隔。在胚胎发育过程中由于皮质相对发育较快在脑表面形成的皱褶而形成脑沟，它是脑的解剖分区和各脑回界定的重要标志。脑沟的存在增加了脑表面积，可以使有限颅腔内脑灰质的表面积增加三倍。有的脑沟在不同的功能区形成了特征性的形态，了解和掌握脑沟的位置和走行可准确地识别脑回和功能区(表1-1)。

中央沟是胚胎发育学上较早出现的脑沟，26周的胚胎脑表面即可出现，是大脑半球外侧面最明显也是最主要的脑沟。实体解剖上，中央沟位于大脑半球背外侧面，额极与枕极连线的中点偏后处，长约8～10cm，迂曲向前下斜行。

中央沟是一条深沟，其深度随走行发生变化。在大脑半球内侧面，中央沟位于扣带沟缘支前方，将前方的额叶和后方的顶叶分开。中央沟也是中央前回和中央后回的分界。中央前回的后界是中央沟，前界是中央前沟。中央前回是随意运动的皮质中枢，皮质脊髓束大部分纤维始于中央前回，部分纤维起自中央后回，其下行至脊髓。中央后回在中央沟和中央后沟之间，其皮质接受躯体感觉传入。

影像学不同平面的断层图像，不可能显示中央沟在脑表面两个弯曲的全貌，只能显示其纵深形态。由于中央沟深且长，故在影像的矢状位、冠状位、横轴位图像上几乎都能见到中央沟，可根据不同扫描位置和层面中脑沟、脑回之间的相互关系以及中央沟的特征性表现来确定中央沟。

在正中矢状位:①中央沟位于扣带沟缘支前方，是位于缘支前方的第1条脑沟;②宽带征是指中央前回的厚度明显大于中央后回，此征象对于判定中央前、后回有很大价值。

在横轴位:①中央前沟、中央后沟与中央沟比较，后者最长，而且越接近脑顶部这种特征越明显，形态多呈“W”形;②额上沟与中央前沟以直角相交，即额上沟-中央前沟征是指额上沟的后端进入中央前沟的征象，而中央沟是位于该征象后方的第一条脑沟，额上沟与中央前沟相交多见于靠近脑顶部的层面，相交的形态呈倒“T”形。上述征象对于间接判定中央沟有重要的意义，尤其是当中央沟的走行无特征性表现时。国外学者Ebeling等在利用额上沟后端识别中央前沟方面进行了不少研究，研究发现“额上沟-中央前沟征”于左侧半球出现率约为88%，于右侧半球约为76%;③中央沟在横轴位上呈现为易于辨认的“门钮状”或“Ω状”形态。

在冠状位:呈现为倒“八”字征:是指两侧中央沟从后内上方向前外下方走行，形成倒“八”字征象，中央沟出现的层面上可同时观察到背侧丘脑、尾状核头、壳和内囊后肢(图1-11～图1-13)。

确定中央沟在神经外科手术中具有非常重要的意义。中央沟是明确额叶、顶叶及中央前、后回的标志。中央沟前方的中央前回是运动功能区，保护该区不受损伤对患者的预后至关重要。另外，矢状窦旁脑膜瘤常与中央沟静脉密切相关，由于中央沟静脉几乎无侧支循环，损伤后可造成神经功能障碍，所以辨认和确定中央沟与中央沟静脉是提高手术成功率的重要因素(图1-13～图1-19)。

中央后沟是大脑半球上外侧面较为恒定的脑沟，常分成上、下两部分，与中央沟大致平行，其上端多未达半球上缘，下端约半数抵达外侧沟。顶内沟通常起始于中央后沟中点或下部的上端。在横轴位上，可以通过辨认中央后回的方法来确认中央后沟。在矢状面上，可借助前方的中央沟与后方的缘上回来辨认中央后沟(图1-20～图1-22)。

中央前沟起自额上沟，与中央沟平行。额中回与中央前回的连接部将其分为中央前上沟和中央前下沟两部分，上述毗邻关系在矢状位显示较清楚。中央前沟后方是中央前回，前方是额中回和额下回(图1-23～图1-24)。

顶内沟是起自中央后沟中点并与半球上缘平行的脑沟。其向后下延续为枕上沟，并与枕横沟相连(图1-25～图1-27)。顶内沟上方为顶上小叶，下方为顶下小叶，后者又分为包绕外侧沟后方的缘上回、围绕颞上沟末端的角回和其后方的顶后回。

两者将枕叶分为枕上、中、下回，枕上沟相当于顶内沟的升支，枕中回的上界为枕上沟，下界为枕下沟，枕下沟的内侧为枕下回。

顶上沟延伸至大脑半球内侧面并伸入楔前叶。顶下沟可与扣带沟相连接，它可以作为扣带沟的后支，顶下沟下方的扣带回较宽，向后行到胼胝体压部突然变窄。

额上沟的形态和位置虽有变异，但往往容易识别，因为它与中央前沟关系密切，常被用于定位额上回、额中回和中央前回。解剖学上，额上沟呈连续走行者占32%～40%，余者断续为2～4段走行。影像学上，MRI可100%显示额上沟，额上沟后部与中央前沟相连者为88%～89%，二者以直角相交，称之为额上沟-中央前沟征，这种征象有助于中央前回、额上回和额中回的定位(图1-28～图1-30)。

额下沟起自眶外侧回水平的前方，位置较额上沟恒定。在矢状位其主干走行方向与外侧沟平行，前端呈“Y”形分叉，末端终止于中央前下沟。冠状位上可见额下沟深至岛叶平面(图1-31～图1-32)。

颞上沟又称平行沟，位于外侧沟下方并与之平行，始于颞极，穿入顶下小叶。颞下沟位于颞上沟下方，平行向后走行，止于枕叶(图1-33～图1-34)。

外侧沟是大脑半球外侧面最主要的界标性脑沟，而且是恒定不变的。在外侧沟前端可见到两条脑沟进入额下回，即升支和前支，外侧沟末端向后延续为后支。岛叶位于外侧沟前支的深部(图1-35～图1-37)。

通过曲面重建技术，几乎可以将大脑凸面的全部脑沟显示于一张重建图上。与不同方向的断面图相比，这种重建图可以更加方便、直观地显示大脑外侧面脑沟的位置和相对解剖关系(图1-38)。